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平面自動拋光機的拋光運動要求

來源:拋光機廠家  時間:2018-10-19  點擊數(shù): 次

  在平面自動拋光機加工中,選擇合理的運動方式以及拋光軌跡是極為重要的一步,拋光運動狀況的好壞,將會直接影響拋光加工時的精度以及生產(chǎn)的效率。所以,平面自動拋光機在拋光加工運動中,拋光運動應滿足以下幾點要求:

平面自動拋光機

  1、在加工工件時,整個平面自動拋光機的拋光運動自始至終都應該力求平穩(wěn)。

  2、拋光運動應該保證工件能夠均勻地接觸拋光盤的全部表面。

  3、所選用的拋光運動應使運動軌跡不斷有規(guī)律地改變方向,盡量避免過早地出現(xiàn)重復。

  4、在拋光運動時,拋光運動還應該根據(jù)不同的拋光工藝要求,具體的選取最佳運動拋光速度。

  5、在拋光運動中,平面自動拋光機的研具與工件之間應處于還處于浮動的狀態(tài),而不應是強制的限位狀態(tài)。

  6、拋光運動應保證工件受到均勻拋光即被研工件表面上的每一點所運動的路程應盡量相等。

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