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平面拋光機(jī)拋光速率對(duì)機(jī)器的影響

來(lái)源:新創(chuàng)勝機(jī)械  時(shí)間:2019-11-05  點(diǎn)擊數(shù): 次

  拋光速率對(duì)平面拋光機(jī)的重要性,平面拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到最大的拋光速率,以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響最終觀察到的組織,即不會(huì)造成假組織。

平面拋光機(jī)

  前者要求使用較粗的磨料,以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層,但拋光損傷層也較深;后者要求使用最細(xì)的材料,使拋光損傷層較淺,但拋光速率低。

  解決這個(gè)矛盾的最好的辦法就是采用自動(dòng)拋光設(shè)備。粗拋目的是去除磨光損傷層,這一階段應(yīng)具有最大的拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能小;其次是精拋(或稱終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到最小。

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